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在半导体衬底上实现无铅压电材料的性能提升—— 通用薄膜沉积法实施多条件评估

 

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摘   要:通过自研的独特薄膜沉积技术——“双轴组合溅射法”,在单个衬底上沿两个方向连续改变生长温度和成分,成功在半导体衬底(硅晶圆)上制作出无铅压电单晶薄膜,同时大幅提升了研发效率,将实验所需探索时间缩短至约1/50。

关键词:无铅压电材料、薄膜沉积法、硅晶圆衬底、振动发电、诱导结构相变

 

要点

  • 采用广泛用于电子器件制造的溅射法,在半导体衬底(硅晶圆)上制作出无铅压电单晶薄膜。

     

  • 利用一种可在单块衬底上同时评估多种薄膜沉积条件的方法(图1①),实现了材料性能的高效优化。

     

  • 使用优化后的材料试制超小型振动发电器件,证实其性能提高了5倍。

 

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图1 研究概述:高效材料探索与半导体衬底上的性能提升

 

概要

压电材料是一种受力时能产生电能、通电时能改变形状的材料,广泛应用于压力传感器、耳机等设备。据报道,作为一种无铅压电材料备受关注的氧化铋铁(BiFeO

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